Ultrathin gate oxides for future SiGe CMOS devices
Licentiatavhandling, 2001
gate oxide
ultrathin
C-V
SiGe
valence band offset
Författare
Alok Sareen
Institutionen för mikroelektronik
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik
Technical report L - School of Electrical and Computer Engineering, Chalmers University of Technology. : 417