Nanoscale interaction layer at the interface between Al films and SiO2 substrates of Al/AlOx/Al Josephson tunnel junctions
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2013
Författare
Lunjie Zeng
Chalmers, Teknisk fysik, Eva Olsson Group
Tine Greibe
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Samira Mousavi Nik
Chalmers, Teknisk fysik, Eva Olsson Group
Christopher Wilson
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Per Delsing
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Eva Olsson
Chalmers, Teknisk fysik, Eva Olsson Group
Journal of Applied Physics
0021-8979 (ISSN) 1089-7550 (eISSN)
Vol. 113 14 Art. no. 143905- 143905Ämneskategorier
Annan teknik
DOI
10.1063/1.4801798