Målet med projektet är att använda röntgennanodiffraktion för att undersöka restspänning, textur och fas gradienter i hög presterande skyddande ytbeläggningar av TiCN - Al2O3, deponerade med kemisk gasdeponering. Information som skulle vara mycket komplicerad att inhämta med andra experimentella tekniker.
Projektet kommer att bidra till att ge bättre förståelse för restspänningsgradienter i Al2O3-ytbeläggningar och hur dessa gradienter är kopplade till den deformering av Al2O3- ytbeläggningar som sker under metallbearbetning. En förståelse som kan hjälpa till i utvecklingen av nya, mer effektiva skyddande ytbeläggningar och därmed bättre, mer effektiva verktyg för metallbearbetning.
Full Professor at Chalmers, Physics, Microstructure Physics
Funding Chalmers participation during 2019–2020
Infrastructure