Nanodiffraktionsundersökning av spänningsgradienter itexturerade CVD alfa-aluminiumoxidskikt
Research Project , 2019 – 2020

Målet med projektet är att använda röntgennanodiffraktion för att undersöka restspänning, textur och fas gradienter i hög presterande skyddande ytbeläggningar av TiCN - Al2O3, deponerade med kemisk gasdeponering. Information som skulle vara mycket komplicerad att inhämta med andra experimentella tekniker.

Projektet kommer att bidra till att ge bättre förståelse för restspänningsgradienter i Al2O3-ytbeläggningar och hur dessa gradienter är kopplade till den deformering av Al2O3- ytbeläggningar som sker under metallbearbetning. En förståelse som kan hjälpa till i utvecklingen av nya, mer effektiva skyddande ytbeläggningar och därmed bättre, mer effektiva verktyg för metallbearbetning.

Participants

Mats Halvarsson (contact)

Full Professor at Chalmers, Physics, Microstructure Physics

Funding

VINNOVA

Funding Chalmers participation during 2019–2020

Related Areas of Advance and Infrastructure

Nanofabrication Laboratory

Infrastructure

More information

Latest update

2020-08-28