Double-sided bulk micromachining of silicon-on-insulator films using room-temperature oxygen plasma assisted wafer bonding

Anke Sanz-Velasco; Henrik Rödjegård; Gert Andersson

Double-sided bulk micromachining of silicon-on-insulator films using room-temperature oxygen plasma assisted wafer bonding
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2002

Författare

Anke Sanz-Velasco

Institutionen för mikroelektronik

Forskning Andra publikationer

Henrik Rödjegård

Gert Andersson

Journal of Micromechanics and Microengineering

Vol. v12 n6 786-7-94-

Ämneskategorier

Elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-08

Om du har frågor, behöver hjälp, hittar en bugg eller vill ge feedback kan du göra det här nedan. Du når oss också direkt per e-post research.lib@chalmers.se.

Meddelande

Din e-postadress

Research.chalmers.se innehåller information om forskning på Chalmers, publikationer och projekt inklusive information om finansiärer och samarbetspartners.

Läs mer om tjänsten, täckningsgrad och vilka som kan se informationen

Personuppgifter och cookies

Tillgänglighet

Citation Style Language
citeproc-js (Frank Bennett)

Chalmers bibliotek

Chalmers forskning

Chalmers examensarbeten

412 96 GÖTEBORG
TELEFON: 031-772 10 00
WWW.CHALMERS.SE

Double-sided bulk micromachining of silicon-on-insulator films using room-temperature oxygen plasma assisted wafer bonding Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2002