HSQ application for sub-10nm scale lithography.
Övrigt konferensbidrag, 2004
An application of hydrogen silsesquioxane (HSQ) negative tone electron beam resist for a sub-10 nanometer
scale fabrication is reported.
neuromorphic networks
Electron beam nanolithography
Författare
Piotr Jedrasik
Chalmers, Produkt- och produktionsutveckling, Maskinkonstruktion och design
Nano and Giga Challenges in Microelectronics, proceedings
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik