Growth and field dependent dielectric properties of epitaxialNa 0.5 K 0.5 NbO 3 thin films
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1998

epitaxy

ferroelectric

capacitor

Författare

Xin Wang

Ulf Helmersson

Sveinn Olafsson

Lars-David Wernlund

Spartak Gevorgian

Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap

Applied Physics Letters

0003-6951 (ISSN) 1077-3118 (eISSN)

Vol. 73 927-

Ämneskategorier

Den kondenserade materiens fysik

DOI

10.1063/1.122040

Mer information

Skapat

2017-10-06