Insights into the Mechanism for Vertical Graphene Growth by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2022
plasma-enhanced chemical vapor deposition
nanoparticles
vertical graphene
2D materials
GaN nanowires
Författare
Jie Sun
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Tanupong Rattanasawatesun
Student vid Chalmers
Penghao Tang
Beijing University of Technology
Zhaoxia Bi
Lunds universitet
Santosh Pandit
Chalmers, Biologi och bioteknik, Systembiologi
Lisa Lam
Göteborgs universitet
Caroline Wasén
Göteborgs universitet
Malin Erlandsson
Göteborgs universitet
Maria Bokarewa
Göteborgs universitet
Jichen Dong
Ulsan National Institute of Science and Technology (UNIST)
Feng Ding
Ulsan National Institute of Science and Technology (UNIST)
Fangzhu Xiong
Beijing University of Technology
Ivan Mijakovic
Danmarks Tekniske Universitet (DTU)
Chalmers, Biologi och bioteknik, Systembiologi
ACS Applied Materials & Interfaces
1944-8244 (ISSN) 1944-8252 (eISSN)
Vol. 14 5 7152-7160Ämneskategorier (SSIF 2011)
Materialkemi
Annan kemi
Den kondenserade materiens fysik
DOI
10.1021/acsami.1c21640
PubMed
35005901