Kinetics of the low-pressure chemical vapor deposited tungsten nitride process using tungsten hexafluoride and ammonia precursors
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2021
CVD
TEM
WN
coatings
SEM
Författare
Johan Gerdin Hulkko
Uppsala universitet
Katalin Böőr
Uppsala universitet
Ren Qiu
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Olof Bäcke
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Mats Boman
Uppsala universitet
Mats Halvarsson
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Erik Lindahl
AB Sandvik Coromant
Journal of Vacuum Science and Technology A
0734-2101 (ISSN)
Vol. 39 6 063403- 063403CVD 2.0 - En ny generation av hårda beläggningar
Stiftelsen för Strategisk forskning (SSF) (RMA15-0048), 2016-05-01 -- 2021-06-30.
Drivkrafter
Hållbar utveckling
Ämneskategorier
Tribologi
Annan elektroteknik och elektronik
Den kondenserade materiens fysik
Fundament
Grundläggande vetenskaper
Infrastruktur
Chalmers materialanalyslaboratorium
Styrkeområden
Materialvetenskap
DOI
10.1116/6.0001093