Multilevel phase holograms manufactured by electron-beam lithography
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1990

Ten-level transmission phase holograms (kinoforms) manufactured in one resist layer by electron-beam lithography are reported for the first time to the authors' knowledge. The measured hologram diffraction efficiencies were 70% for the two resist materials used. This corresponds to 82% of the maximum theoretical value for these holograms and is, to the authors' knowledge, the highest reported to date

holography

electron beam lithography

Författare

Mats Ekberg

Institutionen för tillämpad elektron fysik

J. Michael Larsson

Institutionen för tillämpad elektron fysik

Sverker Hård

Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap

Bengt Nilsson

Institutionen för fysik

Optics Letters

0146-9592 (ISSN) 1539-4794 (eISSN)

Vol. 15 568-569

Styrkeområden

Informations- och kommunikationsteknik

Nanovetenskap och nanoteknik

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

DOI

10.1364/OL.15.000568