Room temperature wafer bonding using oxygen plasma treatment in reactive ion etchers with and without inductively coupled plasma
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2003

Författare

Anke Sanz-Velasco

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Petra Amirfeiz

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Cindy Colinge

Journal Of The Electrochemical Society

Vol. 150 G155-G162

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik