Deposition of high quality thin dielectrics on silicon
Licentiatavhandling, 1996
oxynitride
metal-oxide-semiconductor capacitors
RPECVD
silicon dioxide
interfaces
si-SiO2
remote plasma-enhanced CVD
ONO
C-V
nitrided interfaces
SiO2
deposited dielectrics
Författare
Lars-Åke Ragnarsson
Institutionen för fasta tillståndets elektronik
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik
ISBN
91-7197-396-6
Technical report L - School of Electrical and Computer Engineering, Chalmers University of Technology. : 244