Deposition of high quality thin dielectrics on silicon
Licentiatavhandling, 1996

oxynitride

metal-oxide-semiconductor capacitors

RPECVD

silicon dioxide

interfaces

si-SiO2

remote plasma-enhanced CVD

ONO

C-V

nitrided interfaces

SiO2

deposited dielectrics

Författare

Lars-Åke Ragnarsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

ISBN

91-7197-396-6

Technical report L - School of Electrical and Computer Engineering, Chalmers University of Technology. : 244