Ultrathin gate oxides for future SiGe CMOS devices
Licentiatavhandling, 2001

gate oxide

ultrathin

C-V

SiGe

valence band offset

Författare

Alok Sareen

Institutionen för mikroelektronik

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

Technical report L - School of Electrical and Computer Engineering, Chalmers University of Technology. : 417