Mechanism for Limiting Thickness of Thin Oxide Films on Aluminum
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2014
Författare
J. D. Baran
Henrik Grönbeck
Chalmers, Teknisk fysik, Kemisk fysik
Kompetenscentrum katalys (KCK)
Anders Hellman
Chalmers, Teknisk fysik, Kemisk fysik
Kompetenscentrum katalys (KCK)
Physical Review Letters
0031-9007 (ISSN) 1079-7114 (eISSN)
Vol. 112 14Styrkeområden
Nanovetenskap och nanoteknik (2010-2017)
Transport
Energi
Materialvetenskap
Ämneskategorier
Fysik
Infrastruktur
C3SE (Chalmers Centre for Computational Science and Engineering)
DOI
10.1103/PhysRevLett.112.146103