Controlling deposition of nanoparticles by tuning surface charge of SiO2 by surface modifications
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2016
Författare
Johnas Eklöf
Chalmers, Kemi och kemiteknik, Tillämpad kemi
Tina Gschneidtner
Chalmers, Kemi och kemiteknik, Tillämpad kemi
Samuel Lara Avila
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Kim Nygård
Göteborgs universitet
Kasper Moth-Poulsen
Chalmers, Kemi och kemiteknik, Tillämpad kemi
RSC Advances
20462069 (eISSN)
Vol. 6 106 104246-104253Styrkeområden
Nanovetenskap och nanoteknik
Ämneskategorier
Fysikalisk kemi
Materialkemi
Annan fysik
Infrastruktur
Chalmers materialanalyslaboratorium
Nanotekniklaboratoriet
DOI
10.1039/c6ra22412a