Ferroelectric thin films: Review of materials, properties, and applications
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2006
Författare
Nava Setter
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
D. Damjanovic
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
L. Eng
Technische Universität Dresden
G. Fox
Ramtron International Corporation
Spartak Gevorgian
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågs- och terahertzteknologi
S. Hong
Samsung
A. Kingon
North Carolina State University
H. Kohlstedt
Forschungszentrum Jülich
University of California
N. Y. Park
Samsung
G. B. Stephenson
Argonne National Laboratory
I. Stolitchnov
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
A. K. Taganstev
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
D. V. Taylor
Nanosys, Inc.
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
T. Yamada
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)
S. Streiffer
Argonne National Laboratory
Journal of Applied Physics
0021-8979 (ISSN) 1089-7550 (eISSN)
Vol. 100 5 051606-1-46- 051606Ämneskategorier
Den kondenserade materiens fysik
DOI
10.1063/1.2336999