Manufacturing Graphene-Encapsulated Copper Particles by Chemical Vapor Deposition in a Cold Wall Reactor
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2019
copper particles
thermal conductivity
oxidation resistance
graphene
cold wall reactor
Författare
Shujing Chen
Shanghai University
Abdelhafid Zehri
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Elektronikmaterial och system
Qianlong Wang
Shenzhen Institute of Advanced Graphene Application and Technology (SIAGAT)
Guangjie Yuan
Shanghai University
Xiaohua Liu
Shanghai Shang Da Ruihu Microsyst Integrat Techno
Nan Wang
SHT Smart High-Tech
Johan Liu
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Elektronikmaterial och system
Shanghai University
ChemistryOpen
2191-1363 (eISSN)
Vol. 8 1 58-63Ämneskategorier
Polymerteknologi
Materialkemi
Kompositmaterial och -teknik
DOI
10.1002/open.201800228
PubMed
30652066