Electrochemical etching of AlGaN for the realization of thin-film devices
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2019
Lift-off
Thin-film
AlGaN
Electrochemical etching
Författare
Michael Alexander Bergmann
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik
Johannes Enslin
Technische Universität Berlin
Rinat Yapparov
Kungliga Tekniska Högskolan (KTH)
Filip Hjort
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik
Björn Wickman
Chalmers, Fysik, Kemisk fysik
Saulius Marcinkevičius
Kungliga Tekniska Högskolan (KTH)
Tim Wernicke
Technische Universität Berlin
Michael Kneissl
Technische Universität Berlin
Åsa Haglund
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik
Applied Physics Letters
0003-6951 (ISSN) 1077-3118 (eISSN)
Vol. 115 18 182103- 182103Styrkeområden
Nanovetenskap och nanoteknik
Ämneskategorier
Annan fysik
Nanoteknik
Den kondenserade materiens fysik
Infrastruktur
Chalmers materialanalyslaboratorium
Nanotekniklaboratoriet
DOI
10.1063/1.5120397