Novel monocrystalline silicon micromirrors for maskless lithography
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2008
Micromirrors
EUV lithography
Maskless Lithography
DRIE
Electrostatic actuation
Transfer bonding
Författare
Martin Bring
Chalmers, Teknisk fysik, Elektronikmaterial och system
Peter Enoksson
Chalmers, Teknisk fysik, Elektronikmaterial och system
Sensors and Actuators, A: Physical
0924-4247 (ISSN)
Vol. 145-146 1-1 456-463Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik
DOI
10.1016/j.sna.2007.10.050