Chemical vapor deposition of TiN on a CoCrFeNi multi-principal element alloy substrate
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2020
transmission electron microscopy
Titanium nitride
chemical vapour deposition
X-ray diffraction
multi-principle element alloy
Calphad
Författare
Katalin Böör
Uppsala universitet
Ren Qiu
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Axel Forslund
Kungliga Tekniska Högskolan (KTH)
Olof Bäcke
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Henrik Larsson
Kungliga Tekniska Högskolan (KTH)
Erik Lindahl
AB Sandvik Coromant
Mats Halvarsson
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Mats Boman
Uppsala universitet
L. von Fieandt
AB Sandvik Coromant
Surface and Coatings Technology
0257-8972 (ISSN)
Vol. 393 125778CVD 2.0 - En ny generation av hårda beläggningar
Stiftelsen för Strategisk forskning (SSF), 2016-05-01 -- 2021-06-30.
Ämneskategorier
Oorganisk kemi
Metallurgi och metalliska material
Annan elektroteknik och elektronik
Styrkeområden
Produktion
Materialvetenskap
Fundament
Grundläggande vetenskaper
Drivkrafter
Innovation och entreprenörskap
Lärande och undervisning
Pedagogiskt arbete
DOI
10.1016/j.surfcoat.2020.125778