XPS calibration study of thin-film nickel silicides
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2009
Wagner plot
XPS
Ni silicides
depth profile
Auger parameter
core level
Författare
Yu Cao
Chalmers, Material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik
Lars Nyborg
Chalmers, Material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik
Urban Paul Einar Jelvestam
Chalmers, Material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik
Surface and Interface Analysis
0142-2421 (ISSN) 1096-9918 (eISSN)
Vol. 41 6 471-483Ämneskategorier
Bearbetnings-, yt- och fogningsteknik
DOI
10.1002/sia.3050