Boron impurity at the Si/SiO2 interface in SOI wafers and consequences for piezoresistive MEMS devices
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2009
Boron impurity
Piezoresistive
MEMS
SOI
Författare
Alexandra Nafari
Chalmers, Teknisk fysik, Elektronikmaterial
David Karlén
Cristina Rusu
Imego AB - The Institute of Micro and Nanotechnology
Krister Svensson
Karlstads universitet
Peter Enoksson
Chalmers, Teknisk fysik, Elektronikmaterial
Journal of Micromechanics and Microengineering
0960-1317 (ISSN) 13616439 (eISSN)
Vol. 19 1 6- 015034Styrkeområden
Nanovetenskap och nanoteknik
Materialvetenskap
Infrastruktur
Nanotekniklaboratoriet
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik
DOI
10.1088/0960-1317/19/1/015034