Dynamic laser speckle in optical projection lithography: causes, effects on CDU and LER, and possible remedies

Torbjörn Sandström; Christer Rydberg; Jörgen Bengtsson

Dynamic laser speckle in optical projection lithography: causes, effects on CDU and LER, and possible remedies
Paper i proceeding, 2005

Författare

Torbjörn Sandström

Christer Rydberg

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik

Jörgen Bengtsson

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik

Forskning Andra publikationer

SPIE Proceedings

Vol. 5754

Ämneskategorier (SSIF 2011)

Elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-06

Om du har frågor, behöver hjälp, hittar en bugg eller vill ge feedback kan du göra det här nedan. Du når oss också direkt per e-post research.lib@chalmers.se.

Meddelande

Din e-postadress

Research.chalmers.se innehåller information om forskning på Chalmers, publikationer och projekt inklusive information om finansiärer och samarbetspartners.

Läs mer om tjänsten, täckningsgrad och vilka som kan se informationen

Personuppgifter och cookies

Tillgänglighet

Citation Style Language
citeproc-js (Frank Bennett)

Chalmers bibliotek

Chalmers forskning

Chalmers examensarbeten

412 96 GÖTEBORG
TELEFON: 031-772 10 00
WWW.CHALMERS.SE

Dynamic laser speckle in optical projection lithography: causes, effects on CDU and LER, and possible remedies Paper i proceeding, 2005