Wafer Bonding Induced Degradation Of Thermal Silicon Dioxide Layers On Silicon
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1995

Författare

V. V. Afanasev

Per Ericsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Mats O. Andersson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Applied Physics Letters

Vol. 66 13 1653-1655

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-08