Wafer Bonding Induced Degradation Of Thermal Silicon Dioxide Layers On Silicon
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1995

Författare

V. V. Afanasev

Per Ericsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Mats O. Andersson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Publicerad i

Applied Physics Letters

Vol. 66 Nummer/häfte 13 s. 1653-1655

Kategorisering

Ämneskategorier (SSIF 2011)

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-08