Wafer Bonding Induced Degradation Of Thermal Silicon Dioxide Layers On Silicon
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1995
Författare
V. V. Afanasev
Per Ericsson
Institutionen för fasta tillståndets elektronik
Stefan Bengtsson
Institutionen för fasta tillståndets elektronik
Mats O. Andersson
Institutionen för fasta tillståndets elektronik
Publicerad i
Applied Physics Letters
Vol. 66 Nummer/häfte 13 s. 1653-1655
Kategorisering
Ämneskategorier (SSIF 2011)
Annan elektroteknik och elektronik