Internal oxidation of low dose separation by implanted oxygen wafers in different oxygen/nitrogen mixtures
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1997

Författare

Per Ericsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Publicerad i

Applied Physics Letters

Vol. 71 Nummer/häfte 16 s. 2310-2312

Kategorisering

Ämneskategorier (SSIF 2011)

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-08