Internal oxidation of low dose separation by implanted oxygen wafers in different oxygen/nitrogen mixtures

Per Ericsson; Stefan Bengtsson

Internal oxidation of low dose separation by implanted oxygen wafers in different oxygen/nitrogen mixtures
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1997

Författare

Per Ericsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Forskning Andra publikationer

Applied Physics Letters

Vol. 71 16 2310-2312

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-08

Om du har frågor, behöver hjälp, hittar en bugg eller vill ge feedback kan du göra det här nedan. Du når oss också direkt per e-post research.lib@chalmers.se.

Meddelande

Din e-postadress

Research.chalmers.se innehåller information om forskning på Chalmers, publikationer och projekt inklusive information om finansiärer och samarbetspartners.

Läs mer om tjänsten, täckningsgrad och vilka som kan se informationen

Personuppgifter och cookies

Tillgänglighet

Citation Style Language
citeproc-js (Frank Bennett)

Chalmers bibliotek

Chalmers forskning

Chalmers examensarbeten

412 96 GÖTEBORG
TELEFON: 031-772 10 00
WWW.CHALMERS.SE

Internal oxidation of low dose separation by implanted oxygen wafers in different oxygen/nitrogen mixtures Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1997