Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1996

Författare

Karin Ljungberg

Ulf Jansson

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Anders Soderbarg

Journal Of The Electrochemical Society

Vol. 143 5 1709-1714

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik