Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1996
Författare
Karin Ljungberg
Ulf Jansson
Stefan Bengtsson
Institutionen för fasta tillståndets elektronik
Anders Soderbarg
Journal Of The Electrochemical Society
Vol. 143 5 1709-1714
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik