Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications

Karin Ljungberg; Ulf Jansson; Stefan Bengtsson; Anders Soderbarg

Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1996

Författare

Karin Ljungberg

Ulf Jansson

Stefan Bengtsson

Institutionen för fasta tillståndets elektronik

Forskning Andra publikationer

Anders Soderbarg

Journal Of The Electrochemical Society

Vol. 143 5 1709-1714

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-07

Om du har frågor, behöver hjälp, hittar en bugg eller vill ge feedback kan du göra det här nedan. Du når oss också direkt per e-post research.lib@chalmers.se.

Meddelande

Din e-postadress

Research.chalmers.se innehåller information om forskning på Chalmers, publikationer och projekt inklusive information om finansiärer och samarbetspartners.

Läs mer om tjänsten, täckningsgrad och vilka som kan se informationen

Personuppgifter och cookies

Tillgänglighet

Citation Style Language
citeproc-js (Frank Bennett)

Chalmers bibliotek

Chalmers forskning

Chalmers examensarbeten

412 96 GÖTEBORG
TELEFON: 031-772 10 00
WWW.CHALMERS.SE

Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications Artikel i vetenskaplig tidskrift, 1996