Response to "Comment on a model for internal photoemission at high-k oxide silicon energy barriers, J. Appl. Phys. 112, 064115 (2012)"
Övrig text i vetenskaplig tidskrift, 2013
Författare
Olof Engström
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Terahertz- och millimetervågsteknik
Journal of Applied Physics
0021-8979 (ISSN) 1089-7550 (eISSN)
Vol. 113 16 166102- 166102Styrkeområden
Informations- och kommunikationsteknik
Nanovetenskap och nanoteknik
Ämneskategorier
Den kondenserade materiens fysik
DOI
10.1063/1.4802675