Dynamic laser speckle as a detrimental phenomenon in optical projection lithography
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2006

excimer lasers

illuminator intensity distribution

dose control

line edge roughness

partially coherent optical field

microlens arrays

optical projection lithography

illumination conditions

spectral linewidth

dynamic laser speckle

Författare

Christer Rydberg

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fotonik

Jörgen Bengtsson

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fotonik

Torbjörn Sandström

Journal of Microlithography, Microfabrication and Microsystems

1537-1646 (ISSN)

Vol. 5 33004-1-8-

Ämneskategorier

Telekommunikation

Atom- och molekylfysik och optik