Dynamic laser speckle as a detrimental phenomenon in optical projection lithography
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2006
excimer lasers
illuminator intensity distribution
dose control
line edge roughness
partially coherent optical field
microlens arrays
optical projection lithography
illumination conditions
spectral linewidth
dynamic laser speckle
Författare
Christer Rydberg
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik
Jörgen Bengtsson
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik
Torbjörn Sandström
Journal of Microlithography, Microfabrication and Microsystems
1537-1646 (ISSN)
Vol. 5 3 33004-1-8-Ämneskategorier
Telekommunikation
Atom- och molekylfysik och optik