Morphological and electrical comparison of Ti and Ta based ohmic contacts for AlGaN/GaN-on-SiC HFETs
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2017
Ohmic contact
Morphology
Current collapse
Leakage current
GaN
Transistor
Författare
A. Pooth
IQE (Europe) Ltd.
University of Bristol
Johan Bergsten
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Niklas Rorsman
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
H. Hirshy
Cardiff University
R. Perks
Cardiff University
Paul J. Tasker
Cardiff University
T. Martin
IQE (Europe) Ltd.
R. F. Webster
University of Bristol
D. Cherns
University of Bristol
M. J. Uren
University of Bristol
M. Kuball
University of Bristol
Microelectronics and Reliability
0026-2714 (ISSN)
Vol. 68 2-4Ämneskategorier
Elektroteknik och elektronik
DOI
10.1016/j.microrel.2016.11.002