Electrical characterization of amorphous Al2O3 dielectric films on n-type 4H-SiC
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2018
Författare
Rabia Y. Khosa
Háskóli Íslands
E. B. Thorsteinsson
Háskóli Íslands
Michael Winters
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Niklas Rorsman
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Robin Karhu
Linköpings universitet
J. Hassan
Linköpings universitet
E. O. Sveinbjornsson
Háskóli Íslands
Linköpings universitet
Publicerad i
AIP Advances
2158-3226 (ISSN) 21583226 (eISSN)
Vol. 8 Nummer/häfte 2 art. nr 025304Kategorisering
Ämneskategorier (SSIF 2011)
Oorganisk kemi
Materialkemi
Den kondenserade materiens fysik
Identifikatorer
DOI
10.1063/1.5021411