Novel high-k/metal gate materials
Paper i proceeding, 2007

Författare

Olof Engström

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap

P.K. Hurley

O Buiu

M.C. Lemme

SiNANO Worksshop at ESSDERC 07, Munich

Ämneskategorier

Annan teknik

Mer information

Skapat

2017-10-06