Room temperature wafer bonding using oxygen plasma treatment in reactive ion etchers with and without inductively coupled plasma
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2003

Författare

Anke Sanz-Velasco

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik

Forskning Andra publikationer

Petra Amirfeiz

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik

Forskning Andra publikationer

Cindy Colinge

Journal Of The Electrochemical Society

Vol. 150 2 G155-G162

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

Mer information

Skapat

2017-10-06

Feedback och support

Om du har frågor, behöver hjälp, hittar en bugg eller vill ge feedback kan du göra det här nedan. Du når oss också direkt per e-post research.lib@chalmers.se.

Om tjänsten

Research.chalmers.se innehåller information om forskning på Chalmers, publikationer och projekt inklusive information om finansiärer och samarbetspartners.

Läs mer om tjänsten, täckningsgrad och vilka som kan se informationen

Personuppgifter och cookies

Tillgänglighet

Citation Style Language
citeproc-js (Frank Bennett)

Länkar

Chalmers bibliotek
Chalmers forskning
Chalmers examensarbeten

Chalmers tekniska högskola

412 96 GÖTEBORG
TELEFON: 031-772 10 00
WWW.CHALMERS.SE