Interface state properties of high-k/SiOx/Si interfaces portrayed by multiparameter admittance spectroscopy
Paper i proceeding, 2010
Författare
Bahman Raeissi
Chalmers, Teknisk fysik, Fysikalisk elektronik
T Gutt
H. D. B. Gottlob
H.M. Przewlocki
Olof Engström
Chalmers, Teknisk fysik, Fysikalisk elektronik
Proceedings of the 16th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, p. 103, Bratislava, June 28 - 30 2010
Ämneskategorier
Övrig annan teknik