Gate stacks
Kapitel i bok, 2010

Metal gate

MOSFETs

AlN buffer layer

Gate stacks

GdSiO/LaSiO

Författare

Olof Engström

Chalmers, Teknisk fysik, Fysikalisk elektronik

I. Z. Mitrovic

University of Liverpool

S. Hall

University of Liverpool

Bahman Raeissi

Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork

K. Cherkaoui

Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork

S Monaghan

Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork

H. D. B. Gottlob

Gesellschaft fur Angewandte Mikro- und Optoelektronik mbH

M.C. Lemme

Harvard University

Nanoscale CMOS: Innovative Materials, Modeling and Characterization

23 - 67

Styrkeområden

Informations- och kommunikationsteknik

Nanovetenskap och nanoteknik

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik

DOI

10.1002/9781118621523.ch2

ISBN

978-184821180-3

Mer information

Senast uppdaterat

2018-02-28