Effect of Si cap layer on parasitic channel operation in Si/SiGe metal-oxide-semiconductor structures
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2003

Författare

Alok Sareen

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Y. Wang

Ulf Södervall

Maskinkonstruktion och design, MC2 process laboratorium

Per Lundgren

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Stefan Bengtsson

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Fasta tillståndets elektronik

Journal Of Applied Physics

Vol. 93 3545-3552

Ämneskategorier

Annan elektroteknik och elektronik