TDRC
MOS
High temperature oxidation
Interface trap density
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Mikrovågselektronik
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2), Mikrovågselektronik
0255-5476 (ISSN)
Vol. 615 617 537-540Elektroteknik och elektronik
10.4028/www.scientific.net/MSF.615-617.537
978-087849334-0