Decomposition pathways in nano-lamellar CVD Ti0.2 Al0.8 N
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2023
Phase stability
Phase separation
(Ti,Al)N
Chemical vapour deposition (CVD)
Coatings
Författare
Olof Bäcke
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Sebastian Kalbfleisch
Max IV-laboratoriet
Dirk Stiens
Walter AG
Thorsten Manns
Walter AG
Anton Davydok
Helmholtz
Mats Halvarsson
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Magnus Hörnqvist Colliander
Chalmers, Fysik, Mikrostrukturfysik
Materialia
25891529 (eISSN)
Vol. 30 101833CVD 2.0 - En ny generation av hårda beläggningar
Stiftelsen för Strategisk forskning (SSF) (RMA15-0048), 2016-05-01 -- 2021-06-30.
Ämneskategorier
Bearbetnings-, yt- och fogningsteknik
Den kondenserade materiens fysik
DOI
10.1016/j.mtla.2023.101833