Interface defects in HfO2, LaSiOx and Gd2O3 high-k/metal gate structures on silicon: Energy distribution and passivation
Paper i proceeding, 2007

Författare

P.K. Hurley

K. Cherkaoui

E O'Connor

A.W. Groenland

M.C. Lemme

H.D.B. Gottlob

M Schmidt

S. Hall

Y. Lu

O. Buiu

Bahman Raeissi

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap

Johan Piscator

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap

Olof Engström

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap

Proc. Electrochemical Society Meeting, Washington DC, October 2007

Ämneskategorier

Annan teknik

Mer information

Skapat

2017-10-06