Vertical scaling of gate-to-channel distance for a 70 nm InP pseudomorphic HEMT technology
Paper i proceeding, 2005
Författare
Malin Borg
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Jan Grahn
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Shu Min Wang
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Anders Mellberg
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Herbert Zirath
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik
Proceed. of Conf on InP and Related Materials (IPRM'05)
204-207
Ämneskategorier
Annan elektroteknik och elektronik