Charging Phenomena at the Interface Between High-k Dielectrics and SiOx Interlayers (Invited)
Artikel i vetenskaplig tidskrift, 2010

Författare

Olof Engström

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2)

Bahman Raeissi

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2)

Johan Piscator

Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap (MC2)

I. Z. Mitrovic

University of Liverpool

S. Hall

University of Liverpool

H. D. B. Gottlob

Advanced Microelectronic Center Aachen (AMICA)

M Schmidt

Advanced Microelectronic Center Aachen (AMICA)

P.K- Hurley

University College Cork

K. Cherkaoui

Université de Lyon

Journal of Telecommunications and Information Technology

1509-4553 (ISSN) 1899-8852 (eISSN)

Vol. 1 10-

Styrkeområden

Informations- och kommunikationsteknik

Nanovetenskap och nanoteknik (SO 2010-2017, EI 2018-)

Ämneskategorier

Övrig annan teknik

Elektroteknik och elektronik

Mer information

Senast uppdaterat

2020-08-06