Spatial variarion of hole eigen energies in Ge/Si quantum wells
Paper i proceeding, 2011
Ge quantum well (QW) structures were prepared through Si-capping of 3.3 ML of Ge by MBE on p +-(001) Si substrates at a growth temperature of 550°C. The spatial variation of hole eigen energies in the QW were revealed by DLTS. Depending on the position on the wafer surface, the hole emission may be imposed by a lateral quantum confinement effect. Results of a study by HRTEM methods demonstrate pronounced fluctuations of the QW thickness and variations of the strain field in the QW.
Ge/Si
DLTS
MBE
QWs
HRTEM
Författare
M. Kaniewska
Instytut Technologii Elektronowej (ITE)
Olof Engström
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Terahertz- och millimetervågsteknik
A. Karmous
Universität Stuttgart
O. Kirfel
Universität Stuttgart
E Kasper
Universität Stuttgart
Bahman Raeissi
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap
Johan Piscator
Chalmers, Mikroteknologi och nanovetenskap, Terahertz- och millimetervågsteknik
G Zaremba
Instytut Technologii Elektronowej (ITE)
M Kaczmarczyk
Instytut Technologii Elektronowej (ITE)
M Wzorek
Instytut Technologii Elektronowej (ITE)
A Czerwinsky
Instytut Technologii Elektronowej (ITE)
B Surma
Instytutu Technologii Materialow Elektronicznych w Warszawie
A Wnuk
Instytutu Technologii Materialow Elektronicznych w Warszawie
AIP Conference Proceedings
0094-243X (ISSN) 1551-7616 (eISSN)
Vol. 1399 293-294978-073541002-2 (ISBN)
Styrkeområden
Nanovetenskap och nanoteknik
Ämneskategorier
Övrig annan teknik
DOI
10.1063/1.3666369
ISBN
978-073541002-2